I contributi del Fondo Europeo per lo Sviluppo Regionale, erogati da Regione Piemonte, serviranno a finanziare la ricerca relativa ai progetti WATT4FRED e SiLA per lo sviluppo della famiglia di diodi FRED Pt.
Vishay Intertechnology ha annunciato oggi che lo stabilimento dell’azienda di Borgaro Torinese (TO) ha ricevuto una serie di contributi per la ricerca e lo sviluppo relativi ai progetti WATT4FRED e SiLA (Silicon Laser Annealing), entrambi legati allo sviluppo della famiglia di diodi FRED Pt. Nel primo caso la ricerca riguarda lo sviluppo di una nuova famiglia di diodi ad alta tensione con tecnologie avanzate per il mercato automobilistico, oltre ad applicazioni industriali come elettrodomestici, azionamenti di motori e condizionamento dell’aria; nel secondo caso, la ricerca si concentrerà sullo studio e lo sviluppo di processi avanzati a bassa temperatura per controllare localmente e selettivamente l’energia trasferita ai chip durante la fabbricazione. Anche in questo caso, l’oggetto della ricerca sono i diodi a recupero rapido FRED Pt ai quali l’azienda applicherà la tecnologia thin wafer per migliorarne il comportamento elettrico e termico e garantire miglioramenti dell’efficienza per la conversione di energia nei caricatori di batterie e nei controlli dei motori per i propulsori. Ciò consentirà un’ulteriore accelerazione dell’adozione di nuovi dispositivi nel mercato della mobilità elettrica.
Nel dettaglio, gli obiettivi principali del progetto SiLA sono lo studio e lo sviluppo della tecnologia di ricottura laser per ottenere miglioramenti della dissipazione termica, ridotte perdite di energia da conduzione e commutazione, maggiore rugosità in condizioni dinamiche nonché la definizione di nuovi processi tecnologici basati su attività scientifiche pienamente sviluppate nell’area piemontese. Un partner di progetto specializzato in laser di potenza condividerà diverse sorgenti laser e il suo know-how per realizzare un sistema laser ingegneristico.
L’obiettivo del progetto WATT4FRED è invece quello di studiare e sviluppare processi tecnologici avanzati per generare una nuova famiglia di dispositivi in grado di supportare le più recenti esigenze del mercato in termini di efficienza, costi e consumi pur mantenendo la conformità con le più recenti politiche ambientali. Saranno studiati e sviluppati nuovi processi di fabbricazione avanzati, soprattutto nell’ambito delle tecnologie di assottigliamento dei chip, fondamentali per aumentare la dissipazione di potenza del chip.
Entrambi i contributi sono stati erogati nell’ambito del POR (Programma Operativo Regionale) FESR (Fondo Europeo Sviluppo Regionale) Regione Piemonte 2014-2020, Asse 1 Legge. I.1b.2.2.
