Si è svolta ieri la cerimonia di inaugurazione delle nuove strutture produttive e di ricerca di Intel realizzate nel campus storico di Hillsboro, in Oregon, un ampliamento che ha richiesto un investimento di oltre 3 miliardi di dollari. Per l’occasione, il campus è stato rinominato “Gordon Moore Park”, in omaggio al co-fondatore di Intel Gordon Moore che ha guidato l’innovazione nell’industria dei semiconduttori per oltre 50 anni.
In una cerimonia alla presenza dei principali dirigenti della società, dei funzionari governativi e dei rappresentati della comunità locale, il CEO di Intel Pat Gelsinger ha evidenziato l’impatto positivo dell’azienda in Oregon e ha ribadito il suo impegno per la leadership statunitense nella ricerca e sviluppo dei semiconduttori. Per quanto riguarda il nuovo nome del campus, si tratta di un riconoscimento al co-fondatore di Intel ed alla sua previsione (la Legge di Moore) che ha caratterizzato lo sviluppo dell’industria dei semiconduttori fino ai giorni nostri.
“Sin dalla sua fondazione, Intel ha perseguito quanto enunciato nella Legge di Moore. Questo nuovo spazio produttivo rafforzerà la nostra capacità di accelerare sui processi più avanzati a supporto della nostra strategia IDM 2.0. L’Oregon è da tempo il cuore della nostra ricerca e sviluppo globale di semiconduttori e non riesco a pensare a modo migliore per onorare l’eredità di Gordon Moore che conferire il suo nome a questo campus, che, come lui, ha avuto un ruolo così importante nel far progredire il nostro settore“.
Gordon Moore Park è il cuore pulsante dello sviluppo tecnologico di Intel, dove vengono create nuove architetture per i transistor e nuove tecnologie di confezionamento che sono alla base della roadmap dell’azienda per applicazioni che vanno dal personale computer all’infrastruttura cloud alle reti 5G. Il team di questo sito, che conta circa 10.000 persone, rappresenta una delle principali organizzazioni mondiali di ingegneria dei processi del silicio.
Durante i 25 anni di storia del campus, ingegneri e scienziati hanno continuamente affrontato e poi superato, le sfide poste dalla fisica, con le dimensioni dei chip sempre più vicine alla struttura atomica del silicio. Con tecnologie come high-k metal gate, tri-gate 3D e strained silicon, Intel ha costantemente fornito innovazioni di processo fondamentali per stare al passo con la legge di Moore.
“Queste rivoluzionarie innovazioni di processo sono tutte nate proprio qui in Oregon. Con la nuova espansione della nostra fabbrica D1X, l’Oregon è ben posizionato per fornire la prossima generazione di tecnologie all’avanguardia“, ha affermato Ann Kelleher, vicepresidente esecutivo e direttore generale dello sviluppo tecnologico. “I semiconduttori sono fondamentali per la leadership tecnologica degli Stati Uniti, la nostra economia e la resilienza della catena di approvvigionamento. Intel è l’unica azienda al mondo con la maggior parte della sua ricerca e sviluppo di processi e imballaggi e la produzione di semiconduttori avanzati su larga scala operante nel territorio degli Stati Uniti“.
L’anno scorso, Intel ha presentato una delle roadmap tecnologiche più sfidanti della sua storia. L’azienda è passata ad un ritmo accelerato di innovazione per consentire una cadenza annuale di miglioramenti, sfruttando tecnologie rivoluzionarie che alimenteranno i nuovi prodotti fino al 2025 e oltre, tra cui:
- RibbonFET, la prima nuova architettura a transistor presentata da Intel in oltre 10 anni.
- PowerVia, la prima soluzione del settore di alimentazione dal lato posteriore.
- Il primo utilizzo da parte del settore della tecnologia litografica di nuova generazione High NA EUV.
Con il nuovo Mod3 di D1X, realizzato con un investimento di oltre 3 miliardi di dollari, gli ingegneri Intel hanno ora a disposizione altri 270.000 piedi quadrati di spazio sterile per sviluppare avanzate tecnologie di processo al silicio.
Qui vengono sviluppati contemporaneamente più processi logici innovativi che in seguito, dopo aver raggiunto la maturità, vengono trasferiti agli altri siti produttivi globali di Intel. Dopo il trasferimento, la rete di stabilimenti e la fabbrica di Hillsboro continuano a collaborare per promuovere ulteriori miglioramenti. Ciò consente un rapido passaggio alla produzione in volumi, un veloce apprendimento e un migliore controllo della qualità.
Intel dispone a Hillsboro, 20 miglia a Est di Portland, in Oregon, di quattro campus con circa 22.000 dipendenti, la più grande concentrazione di talenti del mondo. L’espansione Mod3 porta l’investimento totale di Intel in Oregon ad oltre 52 miliardi di dollari.
Sulla base dei dati del 2019, l’impronta economica diretta più significativa di Intel si trova proprio in Oregon. Con i suoi dipendenti, una vasta rete di appaltatori e fornitori locali, investimenti di capitale e altre ricadute a valle, l’impatto annuale totale di Intel è di oltre 105.000 posti di lavoro, oltre 10 miliardi di dollari di reddito da lavoro e 19 miliardi di dollari di prodotto interno lordo.
