Imec ospiterà una linea pilota di litografia a ultravioletti estremi (EUV) ad alta apertura numerica per aiutare i produttori di semiconduttori a comprendere le opportunità che questa avanzata tecnologia può offrire facilitando l’accesso ad una piattaforma di prototipazione che supporterà le loro innovazioni.
L’Unione Europea e il governo regionale fiammingo del Belgio investiranno complessivamente 1,5 miliardi di euro nella società belga di tecnologia dei chip imec che utilizzerà l’investimento per espandere l’attuale camera bianca con le attrezzature e i processi più avanzati.
Imec è uno dei due centri di ricerca più importanti in Europa (l’altro è il CEA-Leti), leader a livello mondiale nella nanoelettronica e nelle tecnologie digitali. Imec sfrutta la sua infrastruttura di ricerca e sviluppo all’avanguardia e il suo team di oltre 5.500 dipendenti e ricercatori di alto livello, per la ricerca e lo sviluppo nei semiconduttori avanzati e nel ridimensionamento dei sistemi, nella fotonica del silicio, nell’intelligenza artificiale, oltre le tecnologie di comunicazione e rilevamento 5G e nei domini applicativi come la salute e le scienze della vita, la mobilità, l’industria 4.0, l’agroalimentare, le città intelligenti, l’energia sostenibile e l’istruzione. Imec ha sede a Leuven (Belgio), e ha siti di ricerca in tutto il Belgio, nei Paesi Bassi e negli Stati Uniti, e rappresentanze in tre continenti.
Nei giorni scorsi imec aveva siglato con ASML un “Memorandum of Understanding” (MoU) per la fornitura delle più avanzate apparecchiature per la costruzione di semiconduttori.
L’annuncio della nuova iniziativa è stato fatto durante la visita agli impianti di imec della presidente della Commissione europea Ursula von der Leyen che ha sottolineato come le attività di ricerca rese possibili dal nuovo finanziamento pubblico contribuiranno a ridurre i rischi dell’attuale catena di approvvigionamento europea dei semiconduttori.
“Sappiamo che riavremo i nostri soldi, non solo in euro ma anche in dividendi sociali“, ha dichiarato il primo ministro fiammingo Jan Jambon in una conferenza stampa congiunta con la presidente della Commissione europea e il primo ministro belga Alexander De Croo.
La nuova linea pilota che verrà realizzata presso la sede di imec ha lo scopo di aiutare le industrie che utilizzano le tecnologie dei semiconduttori a comprendere le opportunità che la tecnologia avanzata EUV può offrendo accesso a una piattaforma di prototipazione che supporterà le loro innovazioni. La collaborazione tra imec, ASML e altri partner consentirà l’esplorazione di nuove applicazioni, il potenziale sviluppo di soluzioni di produzione sostenibili e all’avanguardia per produttori di chip e utenti finali, nonché lo sviluppo di flussi di modelli olistici avanzati in collaborazione coi fornitori di attrezzature e materiali.
Il memorandum d’intesa firmato tra imec e ASML include l’installazione e l’assistenza della suite completa di apparecchiature litografiche e metrologiche avanzate di ASML, come l’ultimo modello 0,55 NA EUV (TWINSCAN EXE:5200), la versione 0,33 NA EUV (TWINSCAN NXE:3800), il nuovo DUV ad immersione (TWINSCAN NXT:2100i), la metrologia ottica Yieldstar e la tecnologia d’ispezione multiraggio HMI.
In ultima analisi, l’iniziativa congiunta imec/ASML consentirà alle aziende europee un più facile accesso a questa tecnologia avanzata, prima di una eventuale produzione di massa presso le foundry che operano con questa tecnologia.
Imec e ASML collaborano con tutti i principali produttori di chip e partner dell’ecosistema di materiali e apparecchiature, con l’obiettivo di preparare la tecnologia per l’adozione più rapida possibile nella produzione di massa. Nella fase successiva, queste attività saranno intensificate nella linea pilota imec a Leuven (Belgio) sullo scanner High-NA EUV di nuova generazione (TWINSCAN EXE:5200).
I piani di collaborazione sulla tecnologia litografia e sulla metrologia tra le due aziende europee sono in linea con le ambizioni e i piani della Commissione europea e dei suoi Stati membri (Chips Act, IPCEI) al fine di rafforzare l’innovazione nel settore dei semiconduttori. Parte della collaborazione tra imec e ASML è quindi racchiusa in una proposta IPCEI che è attualmente all’esame del governo olandese dove ha sede ASML.
“ASML sta assumendo un impegno sostanziale nella fabbrica pilota all’avanguardia di imec per supportare la ricerca sui semiconduttori e l’innovazione sostenibile in Europa. Man mano che l’intelligenza artificiale (AI) si espande rapidamente in domini come l’elaborazione del linguaggio naturale, la visione artificiale e i sistemi autonomi, la complessità delle attività aumenta. Pertanto, è fondamentale sviluppare una tecnologia di chip in grado di soddisfare queste esigenze computazionali senza esaurire le preziose risorse energetiche del pianeta”, ha affermato Peter Wennink , Presidente e Amministratore delegato di ASML.
“Questo impegno di ASML, che si basa su oltre 30 anni di collaborazione di successo, invia un segnale potente della nostra incrollabile dedizione a guidare il progresso della tecnologia dei chip sub-nanometrici“, ha commentato Luc Van den hove, Presidente e Amministratore delegato di imec. “Questa collaborazione è una testimonianza della forza che risiede nell’unità all’interno dell’industria dei chip. Sebbene questi progetti ci consentano inizialmente di rafforzare i nostri punti di forza regionali, aprono anche la strada alla futura cooperazione globale, consentendo ai partner di tutto il mondo di beneficiare delle nostre scoperte. È attraverso questi sforzi collettivi che possiamo davvero accelerare l’innovazione e spingere l’industria dei semiconduttori verso nuove vette”.
