Micron porterà la tecnologia EUV nella sua fabbrica di Hiroshima, in Giappone, per la produzione di memorie DRAM di nuova generazione con nodo 1-gamma (1γ).
Sotto inchiesta in Cina per questioni legate alla sicurezza nazionale e con i conti in profondo rosso dopo il crollo del mercato consumer, Micron Technology continua a credere in una forte ripresa del mercato delle memorie nei prossimi anni e punta a guidare l’innovazione tecnologica in questo campo.
A questo scopo, l’azienda ha annunciato ieri che introdurrà in Giappone la tecnologia dell’ultravioletto estremo (EUV), sfruttando questa sofisticata tecnologia di patterning per produrre la sua prossima generazione di DRAM con nodo 1-gamma (1γ). Micron sarà la prima azienda di semiconduttori a portare la tecnologia EUV in Giappone per la produzione, con la sua fabbrica di Hiroshima che svolge un ruolo fondamentale nello sviluppo dell’azienda del nodo 1-gamma. Micron prevede di investire fino a 500 miliardi di yen (3,6 miliardi di dollari) nella tecnologia di processo 1-gamma nei prossimi anni, con il sostegno del governo giapponese, per consentire la prossima ondata di innovazione tecnologica end-to-end come l’intelligenza artificiale generativa.
Con ogni successivo progresso nella tecnologia di processo per ridimensionare le celle di memoria e migliorare le prestazioni, Micron consente una maggiore densità di memoria, un miglioramento dell’efficienza energetica e un costo per bit inferiore, contribuendo a sbloccare nuove opportunità per la digitalizzazione, la sostenibilità, la trasformazione verde e l’automazione. L’introduzione di 1-gamma segue lo sviluppo di 1-beta (1β) di Micron, attualmente il nodo DRAM più avanzato, che Micron produce in volumi nella sua fabbrica di Hiroshima. Micron continua i suoi piani di integrazione EUV e prevede di aumentare la produzione di EUV sul nodo 1-gamma a Taiwan e in Giappone dal 2025 in poi.
“Negli ultimi dieci anni, le attività di Micron a Hiroshima sono state fondamentali per lo sviluppo e la produzione di numerose tecnologie leader del settore nei chip di memoria”, ha dichiarato Sanjay Mehrotra, Presidente e CEO di Micron. “Siamo orgogliosi di essere i primi a utilizzare EUV in Giappone e di sviluppare e produrre 1-gamma presso la nostra fabbrica di Hiroshima. I nostri piani riflettono il nostro continuo impegno nei confronti del Giappone, il forte rapporto con il governo giapponese e l’eccezionale talento del nostro team di Micron Hiroshima“.
Negli ultimi anni, il Ministero dell’Economia, del Commercio e dell’Industria (METI) giapponese ha garantito un significativo sostegno agli investimenti e stabilito strategie a lungo termine volte a gettare solide basi per una produzione di semiconduttori all’avanguardia, una catena di approvvigionamento resiliente a sostegno dell’economia digitale nel paese.
“L’annuncio odierno di Micron relativo alla produzione di memorie 1-gamma nella sua fabbrica Giapponese di Hiroshima rappresenta un importante passo in avanti per proteggere le catene di fornitura di semiconduttori”, ha dichiarato Rahm Emanuel, Ambasciatore degli Stati Uniti in Giappone. “Questa partnership dimostra come gli alleati, quando lavorano insieme, possono creare opportunità economiche e sicurezza nelle tecnologie all’avanguardia“.
La litografia EUV è il processo di produzione di semiconduttori più sofisticato al mondo. L’integrazione di questa tecnologia nel prossimo nodo di processo 1-gamma di Micron svolgerà un ruolo chiave per la produzione di chip di memoria più veloci, più efficienti dal punto di vista energetico e con prestazioni più elevate e consentirà all’azienda di proseguire la sua incessante ricerca in questo settore.
“Micron è l’unica azienda che produce DRAM in Giappone ed è fondamentale per stabilire il ritmo non solo per l’industria globale delle DRAM, ma anche per il nostro ecosistema di semiconduttori in via di sviluppo“, ha dichiarato Satoshi Nohara, direttore generale del Commerce and Information Policy Bureau del METI. “Siamo lieti di vedere la nostra collaborazione con Micron mettere radici a Hiroshima con EUV all’avanguardia da introdurre sul suolo giapponese. Ciò non solo approfondirà e farà avanzare l’infrastruttura del nostro ecosistema di semiconduttori, ma sbloccherà anche una crescita esponenziale e opportunità per la nostra economia digitale“.
Il nodo 1-gamma di Micron segue il nodo 1-beta che Micron ha iniziato a spedire lo scorso novembre ai produttori di dispositivi mobili. Consolidando con ciò la sua leadership nel settore, l’azienda ha ora iniziato a spedire la sua memoria LPDDR5X basata su 1-beta prodotta a Hiroshima a clienti industriali, automobilistici e consumer in Asia, Stati Uniti ed Europa. La memoria offre bassa potenza e prestazioni per AI, veicoli intelligenti e realtà virtuale.
I numerosi siti di Micron in Giappone, compreso il suo stabilimento di Hiroshima, sono fondamentali per la sua roadmap di ricerca e sviluppo — e produzione di massa — per la tecnologia DRAM all’avanguardia di Micron in tutte le sue linee di prodotti. Con oltre 4.000 ingegneri e tecnici in Giappone, Micron è impegnata a promuovere lo sviluppo della forza lavoro e l’ecosistema dei semiconduttori in Giappone e, negli ultimi cinque anni, ha assunto più di 1.500 nuovi dipendenti in Giappone. Micron fornisce circa un terzo delle DRAM utilizzate dal Giappone in settori critici che vanno dall’automotive alle apparecchiature mediche, ai data center e all’infrastruttura 5G. Con la dimensione della cella più piccola al mondo, l’imminente tecnologia 1-gamma aprirà la strada alla produzione di massa di prodotti sofisticati richiesti in applicazioni complesse, dalle infrastrutture critiche alle reti di elaborazione delle immagini.
